Физико-химические основы легирования полупроводников
Главный автор: | Глазов В.М., Земсков В.С |
---|---|
Соавтор: | АН СССР. Ин-т металлургии им. А.А. Байкова |
Формат: | |
Язык: | Russian |
Опубликовано: |
М
Наука
1967
|
Предметы: |
Схожие документы
-
Физико-химические основы рационального легирования сталей и сплавов
по: Ершов Г.С., Бычков Ю.Б
Опубликовано: (1982) -
Физико химические методы обработки поверхности полупроводников
Опубликовано: (1979) -
Физико-химические и химические основы копчения
по: Курко В. И.
Опубликовано: (1960) -
Физико-химические основы амальгамной металлургии
по: Козин Л.Ф
Опубликовано: (1964) -
Физико-химические основы металлургических процессов
Опубликовано: (1973)